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IL2000小
IL-600
C3000
IL1000

InnoLas Wafer Marker 晶片/晶圆 激光打标/雕刻/刻字系统

主要特征:

适用材料:Si硅、Ge锗、SiC碳化硅、GaN氮化镓、AlN氮化铝、Al2O3、LT但酸锂、LN铌酸锂、GsAs砷化镓、InP磷化铟、玻璃等

材料尺寸:2~12寸

打标深度:0.1~200um 

 

独有特性:

1、支持正反面无接触打标(无需翻转晶圆)

2、打标无粉尘、无杂物、无污染。

3、激光器使用寿命长达8~10年。

4、系统稳定可靠,无耗材。

5、一体化设计,体积小、功耗低、长寿命、高效率、免维护,高质量的激光器,光斑漂亮精细、不需耗材。