晶圆/掩模板清洗、高温磷酸刻蚀、SiC/GaN等向性刻蚀整形

• 业界标杆/标准、实绩丰富：全球14-45nm销售 >1000+台！
• 清洗种类：正反面、倒角面、氧化膜；表面无损伤、无残粒、无刻蚀
• 等向性干刻：底角圆滑、消除微波损伤、栅极SiN层去除、沟槽表面优化/平滑化
• 高温磷酸刻蚀：<30ea@19nm颗粒、~16腔高产能单片式、逻辑产品实绩丰富